【等離子Plasma】低氣壓等離子體發生器是一種低氣壓氣體放電裝置，一般由三部分組成：產生等離子體的電源、放電室、抽真空系統和工作氣（或反應氣）供給系統。
通常有四類：靜態放電裝置、高壓電暈放電裝置、高頻（射頻）放電裝置（有3種類型）和微波放電裝置。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環境中，由等離子體處理。
由于低氣壓等離子體為冷等離子體，當氣壓為 133～13.3帕左右時，電子溫度高達10000開，而氣體溫度只有300開，既不致燒壞基體，又有足夠能量進行表面處理。【等離子表面刻蝕】
低氣壓等離子體發生器已日益廣泛應用于等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。
成功的例子如：在半導體制作工藝中，采用氟里昂等離子體干腐蝕，用離子鍍法在金屬表面生成氮化鈦膜等。
