等離子清洗機又稱等離子表面處理儀器，是一種全新的高科技技術。等離子清洗機是利用等離子來達到傳統清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質狀態，也稱為第四種物質狀態。對氣體施加足夠的能量使其電離，就變成了等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機是利用這些活性成分的性質來處理樣品表面，從而達到清洗等目的。
等離子清洗機的清洗主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發成等離子體狀態；氣相物質吸附在固體表面；吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；分析產物分子以形成氣相；反應殘留物從表面分離。
等離子清洗機清洗的特點是可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，例如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環氧樹脂甚至聚四氟乙烯，而不管要處理的基材類型如何。等離子清洗機還可以實現整體、局部和復雜結構的清洗。
等離子清洗機清洗時產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度。隨著氣體變得越來越稀薄，分子或離子的分子間距和自由移動距離也變得越來越長。在電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。
等離子清洗機的等離子體活性很高，有足夠的能量破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學性質。例如，氧等離子體具有很高的氧化性能，可以氧化光刻膠產生氣體，從而達到清洗效果。腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，能夠滿足刻蝕的需要。輝光是在等離子體處理過程中發出的，所以它被稱為輝光放電處理。
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